-- 路透社周四援引一份法案草案报道称,美国国会已缩减一项旨在限制中国芯片制造设备的法案,以确保其潜在影响范围更小。 路透社报道称,根据《多边技术控制硬件协调法案》(MATCH Act),仍将对总部位于荷兰的ASML公司生产的深紫外浸没式光刻机实施全国范围的限制。 报道称,这项由两党共同提出的《多边技术控制硬件协调法案》(MATCH Act)将有助于美国保持其在人工智能技术领域的领先地位。 报道称,此前的草案将强制盟友遵守美国的管制措施,并实施全国范围和针对特定公司的限制。 路透社称,国会一直在根据特朗普总统放宽对先进芯片的限制,起草新的芯片限制立法。 (市场动态新闻来源于与全球市场专业人士的对话。这些信息被认为是来自可靠来源,但可能包含传闻和猜测。准确性无法保证。)
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$SHA:600487
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$ASX:SLS