三星电子(KRX:005930)宣布扩大与荷兰半导体制造商ASML的战略合作伙伴关系,深化双方在高数值孔径EUV光刻和先进半导体制造技术领域的合作。 这家韩国科技公司表示,根据合作协议,三星将参与一项行业计划,共同开发用于高数值孔径EUV光刻的12英寸光掩模平台,突破沿用数十年的6英寸光掩模限制。 向更大尺寸光掩模的过渡有望提高晶圆厂的生产效率,降低芯片制造成本,并消除拼接限制,从而为未来低成本芯片的研发铺平道路。
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