-- ロイター通信は木曜日、法案草案を引用し、米議会が中国の半導体製造装置を規制する法案の内容を縮小し、影響範囲を限定したと報じた。 ロイターによると、MATCH法案に基づく規制には、オランダに本社を置くASML社の深紫外液浸リソグラフィ装置に対する全国的な規制が含まれるという。 同報道によると、超党派の「ハードウェア技術規制の多国間調整法(MATCH法案)」は、米国が人工知能(AI)技術分野でトップの地位を維持するのに役立つという。 同報道によると、以前の草案では、同盟国に米国の規制に従うことを強制し、国レベルおよび企業レベルでの規制を課す内容だった。 ロイターによると、議会はドナルド・トランプ大統領による先端半導体規制の緩和に合わせて、半導体規制に関する新たな法案を策定している。 (マーケットチャッターのニュースは、世界中の市場専門家との会話に基づいています。この情報は信頼できる情報源に基づいていると考えられますが、噂や憶測が含まれる可能性があります。正確性は保証されません。)
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